環(huán)氧板成像原理

高分辨電子顯微術(shù)(HREM或HRTEM)是種基于相位襯度原理的成像技術(shù)。入射電子束穿過很薄的晶體試樣，被散射的電子在物鏡的背焦面處形成攜帶晶體結(jié)構(gòu)的行射花樣，隨后銜射花樣中的透射束和銜射束的干涉，在物鏡的像平面處重建晶體點陣的像。這樣兩個過程對應著數(shù)學上的傅里葉變換和逆變換。

環(huán)氧板高分辨操作:讓物鏡光闌同時讓透射束和多個銜射束通過，共同達到像平面干涉成像的操作。此時，由于試樣為薄膜試樣，厚度極小，電子波通過樣品后的振幅變化忽略不計，像襯度是由透射波和衍射波的相位差引起的，即相位襯度。

物鏡光闌可以完成4種操作:明場操作、暗場操作、中心暗場操作(需在偏置線圈的幫助下)及高分辨操作。前3種成像靠的是單束成像，獲得振幅襯度，形成銜襯像，而高分辨成像則是多束成像，獲得相位襯度，形成相位像。

注意:(1)任何像襯度的產(chǎn)生均包含振幅襯度和相位襯度，振幅襯度又包含銜襯襯度和質(zhì)厚襯度，兩者只是貢獻程度不同而已。

(2)環(huán)氧板銜襯成像靠的是滿足布拉格方程的程度不同導致的強度差異，可由干涉函數(shù)的分布曲線獲得解釋，它只能是透射束或銜射束單束通過物鏡光闌成像;而高分辨像靠的是相位差異導致強度差異，需多束(至少兩束)通過物鏡光闌相互干涉成形成條紋像。

(3)環(huán)氧板高分辨像襯度的主要影響因素是物鏡的球差和欠焦量，其中選擇合適的欠焦量是成像關(guān)鍵。成像過程的兩個環(huán)節(jié):①電子波與試樣的相互作用，電子波被試樣調(diào)制，在試樣的下表面形成透射波，又稱物面波;其數(shù)學表達為試樣透射函數(shù)M(,);②透射波經(jīng)物鏡成像，經(jīng)多級放大后顯示在熒光屏上，該過程又分為兩步:從透射波函數(shù)到物鏡后焦面上的行射班點(銜射波函教)，再從行射班點到像平面上成像，這兩個過程為傅里葉的正變換與逆變換。該過程的數(shù)學表達為襯度傳遞函數(shù)S(u,v)。

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